Státem podporovaná společnost v Šanghaji zahájila sériovou výrobu ponořených litografických strojů pro hluboké ultrafialové záření (DUV). První kusy mají ještě letos zamířit k čínským výrobcům čipů SMIC, Hua Hong a CXMT, informoval The Information. Většina komponent v nových systémech je domácí, část kritických dílů ale stále pochází z Japonska. Ponořená DUV litografie tiskne rysy třídy 28 nanometrů na jedno osvícení, k sedmi nanometrům se dostává vícenásobným vzorováním. Vývoj podle zdrojů stáhl týmy z několika čínských firem, jednou z nich je státem podporovaný startup Shanghai Yuliangsheng Technology, jehož nástroj SMIC testuje od září 2025. Jde o další krok Pekingu k omezení závislosti na západní litografii, kterou ovládá nizozemský ASML.
